上海微电子光刻机平台亮相：流片超千万片 有效率超 92%

1 hours ago AI闪点

11 月 5 日，第九届中国国际进口博览会于上海国家会展中心开幕，上海微电子装备（集团）股份有限公司携自主研发的新一代前道干式光刻机通用技术平台模型正式亮相，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。

适配 I-line 与 KrF 两条路线

本次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配 I-line、KrF 两类主流技术路线，其中 I-line 波长 365 纳米、KrF 波长 248 纳米，都属于深紫外光源并服务成熟制程。整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控。

累计支持流片超千万片

国产前道光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度与生产效率紧密追赶国际标杆，多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超 92%。SMEE 成立于 2002 年 3 月，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，注册资本约 2.66 亿元人民币。

双工件台带来约 35% 效率提升

双工件台是提升光刻机产能的关键技术，两个工作台可以同时运作，一个专注曝光作业，另一个同步做曝光前的预对准准备，据测算可将生产效率提升约 35%。字节跳动洽谈联发科 AI 芯片 讨论的是算力芯片自研路线往上游走的同一张国产化网络，光刻设备是其中最靠前的一环。

延伸阅读

AI 自学笔记 每天更新 AI 前沿动态，订阅 RSS，或按 Ctrl/⌘+D 收藏本站，明天见。

继续读

同一批更新里这几篇值得一看：

想快速查定义？对应的词条在这里：

Related News